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    玻璃瓶公司濺射鍍膜與真空鍍膜的區(qū)別
    作者:琳瑯玻璃發(fā)布:2016-02-20已訪問:3607 次

           與真空蒸度不同,濺射是利用高能離子碰撞靶材,使之以原子、分子、離子的形成飛出,從而在基板上成膜。這種制模的方法是在我們玻璃瓶廠中在普及而且被工業(yè)化生產(chǎn)的最常用的方法。
           所謂濺射的現(xiàn)象是由Grove在放電管內(nèi)壁面上發(fā)現(xiàn)陰極上A1的附著現(xiàn)象后發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。高能離子(或中性離子)與靶材產(chǎn)生彈性碰撞,靶材表面的離子吸收了這一動量,其后與周圍的離子進(jìn)一步碰撞,其結(jié)果切斷了靶材表面原子間相連的鍵,是原子表面飛出,產(chǎn)生了濺射。
          濺射中引起的各種效應(yīng)對玻璃瓶成膜濺射有效的是二次電子發(fā)射,玻璃瓶陰極(靶材)濺射、氣體解析分解,對陰極的加熱、院子在布局的擴(kuò)散、晶格變化及離子注入。
          二次電子數(shù)與入射正粒子數(shù)目相比r成為玻璃瓶的二次電子發(fā)射系數(shù),其值大小受靶材性質(zhì)、正離子質(zhì)量及電離電位和他的動量大小的影響。當(dāng)正粒子能量達(dá)到幾十至幾百電子伏時(shí)r值在玻璃瓶公司幾百分之一只幾十分之一之間。
         正離子碰撞靶材時(shí)會將其加熱,其能量的75%轉(zhuǎn)變?yōu)闊幔纱税胁男枰隽己玫睦鋮s,以免靶材的分解乃至溶化。
        一般玻璃瓶廠真空蒸度中由蒸發(fā)源飛出原子的能量為0.1ev,而靶材中飛濺出的原子能量要比真空蒸度源飛出原子能量要大1~2個(gè)數(shù)量級,約為5~10eV,每個(gè)單位時(shí)間內(nèi)有濺射速度R,R值與入射正離子密度與濺射系數(shù)值積成正比。

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