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       化學(xué)氣相成長(zhǎng)鍍膜方法是將氣體 狀原料含有需在基板上堆積物質(zhì)的氣體化學(xué)物原料玻璃瓶廠用H2,N2,Ar氣的載流氣引入至基板區(qū)域，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基板上形成薄膜的方法。玻璃瓶公司通過(guò)化學(xué)反應(yīng)的控制可在基板上形成金屬，半導(dǎo)體，絕緣體等各種薄膜。
        DVD法為一不均勻系統(tǒng)反應(yīng)，玻璃瓶生產(chǎn)廠家根據(jù)技術(shù)人員對(duì)此反應(yīng)的氣體，反應(yīng)副產(chǎn)物氣體等的光譜分析，可以認(rèn)為其反應(yīng)如下，1反應(yīng)氣體輸送2反應(yīng)氣體被基板材料吸附并在表面擴(kuò)散，3在基板表面出現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)，成核及膜成長(zhǎng)4，反應(yīng)副產(chǎn)物為氣體，在基板表面解吸，擴(kuò)散及由基板表面脫離，5不斷提供的反應(yīng)氣體原料使鍍層有導(dǎo)狀生長(zhǎng)為完整的薄膜。這些過(guò)程中最慢的過(guò)程決定了整體反應(yīng)沉積薄膜的速度。
         沉積溫度下參加反應(yīng)的各種物質(zhì)應(yīng)具備足夠的蒸汽壓或應(yīng)舉備足夠的過(guò)飽合度。徐州玻璃瓶廠在介紹中給出了CVD法中成膜溫度與過(guò)飽度對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)的影響示意。
        參加反應(yīng)的原料物質(zhì)應(yīng)為氣態(tài)，反應(yīng)生成物除鍍層材料為固態(tài)外其余也應(yīng)為氣態(tài)。玻璃瓶廠把沉積鍍膜溫度下基板及沉積物本身的蒸汽壓要足夠低，才可保證在反應(yīng)中固態(tài)沉積物與基板形成牢固的結(jié)合。